THE FACT ABOUT 美国专利 THAT NO ONE IS SUGGESTING

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圖6A至6D係四個不同電鍍裝置組態之截面示意圖。電流及電壓線圖解說明於該等截面示意圖上。圖中亦顯示該等電鍍裝置中之每一者之電流密度與徑向位置之代表關係曲線圖。

ラム リサーチ コーポレーションLam Research Corporation

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於其他實施例中,通孔提供於電阻元件中以在元件之本體內形成彼此大致不連通之通道,由此使離子電流於元件中之側向移動減小化。電流大致沿與電阻元件附近之最靠近電鍍表面正交之向量方向以一係一維之方式流動。

於其他實施例中,該等虛陰極中之一者或兩者由實體陰極替換,且實體陰極簡單地位於虛陰極之位置處。該電鍍裝置以一類似於虛陰極或實體陰極(不具有虛陰極)之方式執行。然而,如下文所述,使用虛陰極提供優點。

上文所述之裝置組態係對本發明實施例之例示。熟習此項技術者將瞭解,可使用包括適當定位之輔助陰極及第二輔助陰極之替代電鍍單元組態。儘管屏蔽插入物適用於提高電鍍均勻度,但在一些實施例中,可能不需要屏蔽插入物,或者另一選擇係,可採用替代屏蔽組態。

結論 應理解,本文中所述之實例及實施例僅旨在圖解闡釋之目的且將向熟習此項技術者建議鑒於其之各種修改或改動。儘管為清楚起見已省去各種細節,但可實施各種設計替代方案。因此,本發明實例應視為例示性的而非限制性的,且本發明不僅限於本文中所給出之細節,而是可在隨附申請專利範圍之範疇內加以修改。此外,應理解,本申請案中所呈現之許多特徵可單獨地以及以熟習此項技術者將理解之彼此之任一合適組合形式實施。

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虛擬電極 兩種類型之電流源(或槽)電極應在一如本文中所述之電鍍裝置中識別出:一虛擬電極及一實體電極。該兩種類型之電極提供電流源(陽極)或電流槽(陰極)。

抓鬥係由兩個主塊構成。抓鬥之第一塊為圓錐體,其可打開以允許插入並抽出晶圓。圓錐體亦對觸點及密封件施加壓力。抓鬥之第二塊為晶圓固持杯。通常需要杯之底部由一絕緣體製成(或塗佈有一絕緣體)以避免任何例如出現在一放入一具有一側向變化電位之電解質中之金屬上之偶聯腐蝕及電解沈積反應。然而,同時,杯底部需要在機械上為強的。此乃因其需要為薄的以避免晶圓邊緣附近之電解質流擾動同時足夠強以將杯向上壓靠在晶圓及圓錐體上同時避免撓曲。因此,於一些實施例中,杯底部係塗佈有一絕緣材料(例如玻璃或塑膠)之金屬。

於一些實施例中,第二輔助陰極之第二實體陰極包括多個段,其中該等段中之每一者皆可藉由一單獨電源或使用一個具有多個適於第二實體陰極之獨立功率段之通道之電源來單獨地加電。此一分段式第二實體陰極特別適用於在非圓形或不對稱晶圓(例如具有平坦區域之晶圓)上電鍍。儘管現今相當罕見,但一些晶圓含有晶圓「平地」、一例如用於對準之晶圓邊緣處之晶圓之切出弧。然而,通常,一具有獨立加電段之分段式第二實體陰極可用於任一種類之工件(對稱的或不對稱的),因為其允許細調電鍍均勻度。特定而言,一分段式第二實體陰極可用於提供晶圓之不同方位角位置處之電流校正。

採用一輔助陰極來調變引向一晶圓(在例如一移動機械屏蔽或膜片上)之電流之優點之一在於可在該電鍍過程期間快速地且動態地控制應用至該輔助陰極之電流位準以顧及在沈積金屬時快速改變金屬薄片電阻。此有助於在該電鍍過程之不同時間期間使電鍍不均勻度保持至一最小值。舉例而言,當該層為薄時,應用至該輔助陰極之電流位準可從高位準開始,且隨後可隨著電鍍層之厚度增加及終端效應之嚴重性減退而在電鍍期間(例如,在一幾秒之週期內)逐漸地或遞增地減小。

本发明公开了一种用于太阳能模块的光重定向膜。光重定向膜限定了纵向轴线,并包括基底层、有序排列的多个微观结构、以及反射层。微观结构从基底层伸出,并且每个微观结构沿着基底层延伸以限定对应的主轴线。至少一个微观结构的主轴线相对于纵向轴线倾斜。反射层与基底层相对地位于微观结构之上。当例如用于覆盖光伏模块镀锡焊带的部分或不含光伏电池的区域时,本发明的膜唯一反射入射光。

)處之低電阻,故離子電流密度在中心處為低且在邊緣處為高。此一電流密度導致邊緣厚金屬沈積剖面。

由於晶圓平坦區域處之電流密度通常將不同於晶圓之圓形區域處之電流密度,因此需要自晶圓平坦部分轉移一與其他部分相比較不同之電流量。因此,於一個實施例中,第二實體陰極段與晶圓旋轉一致加電,以使得一第一位準之電流供應至與晶圓平坦區域對準之段,同時一第二位準之電流供應至與晶圓之圓形部分對準之第二實體陰極段。

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